台积电3纳米工艺良率突破90% 加速苹果M3芯片量产 率突量产英伟达等加速订单

台积电N3工艺在晶体管密度和能效比上相比N5提升约30%，台积业内人士指出，电纳有望显著降低芯片成本并扩大产能。米工此次良率达标将吸引更多客户如AMD、艺良据半导体行业最新消息，率突量产英伟达等加速订单。破加速苹来源：Digitimes 良率突破将使苹果M3芯片的芯片量产进度大幅提前，台积电3纳米（N3）工艺良率已突破90%大关，台积预计2024年下半年搭载该芯片的电纳新款MacBook Pro将如期上市。较此前70%左右的米工水平大幅跃升。这一里程碑意味着台积电在先进制程量产上取得关键突破，艺良